반도체 공정

본 강좌에서는 웨이퍼 제조와 IC 소자 제조 기술을 공부한다. 공부할 내용으로는 웨이퍼 제조, 산화, 확산, 이온주입, 금속막 증착, 리소그라피, 식각, CMOS 종합공정 등이다.

1.	웨이퍼 성장 및 가공	공업용 규소로부터 고순도 단결정 실리콘 잉곳과 그것으로부터 단결정 실리콘 웨이퍼를 생산하는 공정을 공부한다.
2.	화학기상증착	화학기상증착(CVD) 기술을 사용하여 다양한 종류의 박막을 증착하는 기술을 공부한다.
3.	에피층 증착 기술	실리콘 웨이퍼 위에 실리콘 에피탁시 층을 증착하는 기술을 공부한다.
4.	산화공정	열산화막 증착 공정 기술을 공부한다.
5.	확산 공정	실리콘 웨이퍼 안에서의 불순물 확산 기술을 공부한다.
6.	이온주입 공정	불순물의 이온 주입 공정 기술을 공부한다.
7.	알루미늄/구리 막 증착	스퍼터링을 사용한 Al 막 증착 기술과 상감기법을 사용한 구리막 증착기술을 공부한다.
8.	내화성 금속 증착	실리사이드와 내화성금속 증착기술을 공부한다.
9.	광학 리소그라피	광학리소그라피를 사용하여 감과막을 패터닝하는 공정 기술을 공부한다.
10.	고급 리소그라피	고급 리소그라피 기술을 공부한다.
11.	건식각	개스를 사용하여 다양한 박막을 식각하는 공정 기술을 공부한다.
12.	습식각과 세정	화학 용액을 사용하여 다양한 박막을 식각하는 공정 기술과 웨이퍼 세정기술을 공부한다.
13.	CMOS 종합공정	CMOS 소자 제작의 모든 일련 과정을 공부한다.